説明

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超純水精製システムは、通常 18.2 MΩ・cm を超える比抵抗を持つ最高レベルの純度の水を提供するように設計されており、最も厳しい水質基準を必要とする産業に最適です。この高度なシステムは、逆浸透 (RO) 技術と電気脱イオン (EDI) 技術を組み合わせて超純水 (UPW) を生成し、水に溶解塩、有機物質、バクテリア、その他の汚染物質が含まれていないことを保証します。

主な特長

高純度水の製造:

The system produces ultrapure water that meets the stringent requirements for industries such as semiconductor manufacturing, pharmaceutical production, food processing, and laboratory research. The water meets resistivity levels of >18.2 MΩ・cm、繊細なプロセスには必須。

2 段階の精製プロセス-:

逆浸透 (RO): 最初の段階では逆浸透を利用して水から溶解固体、塩、有機物を除去し、総溶解固体 (TDS) を最大 99% 削減します。

電気脱イオン化 (EDI): 第 2 段階では EDI テクノロジーを使用して残留イオンをさらに除去し、化学的再生を必要とせずに超純水を生成します。継続的な再生プロセスは電界によって駆動されるため、環境に優しく持続可能なソリューションとなります。-

化学薬品を使用しない-再生:

従来のイオン交換システムとは異なり、EDI ステージは化学物質を使用せずに動作するため、システムは環境に優しく、化学物質の取り扱いと廃棄に関連する運用コストが削減されます。

研磨と最終濾過:

オプションの研磨フィルターと UV 滅菌により、最終的な水出力に残留微生物、粒子、または微量有機物質が含まれないことが保証され、重要な用途に滅菌された超純水が提供されます。

-リアルタイムの水質モニタリング:

このシステムには、比抵抗、全有機炭素 (TOC)、粒子数などの主要な水質パラメータの継続的なモニタリングが含まれており、精製水が必要な純度基準を一貫して満たしていることを保証します。

アプリケーション

半導体製造:

超純水は、半導体ウェーハの洗浄、プリント基板（PCB）の洗浄、不純物による汚染を防止して高品質のマイクロチップの製造を確保するために不可欠です。{0}

製薬およびバイオテクノロジー産業:

医薬品の製造に使用され、製剤、装置の洗浄、最高水準の衛生と安全性の確保に超純水が必要となります。

飲食業界:

原料の準備、機器の洗浄、製品の配合に精製水を提供し、飲料、乳製品、包装食品などの食品の品質、一貫性、安全性を確保します。

研究所と研究:

微量の汚染物質でも実験結果や試験に支障をきたす可能性がある分析化学や微生物試験では不可欠です。

利点

信頼性の高い一貫したパフォーマンス:

RO-EDI システムは、中断することなく継続的な産業運営を可能にする信頼性の高い高純度の水を保証します。-

環境に優しい-:

化学薬品を使用しない再生プロセスとエネルギー消費の削減により、このシステムは従来の浄水方法よりも持続可能で環境に優しいものになっています。{0}

費用対効果の高い-:

化学薬品の使用、メンテナンス、水の無駄が削減されるため、運用コストが低くなります。このシステムは、頻繁な化学物質の再生や手動介入の必要性を排除することで、長期的なコスト削減を実現します。-

最小限のメンテナンス:

メンテナンス要件が低いように設計されたシステムの自動プロセスと自己再生コンポーネントにより、操作が容易になり、ダウンタイムと人件費が削減されます。{0}{1}

仕様

抵抗率	>18.2MΩ・cm
総溶解固形分 (TDS)	<10-20 ppm
シリカ	<0.05 ppm
全有機炭素 (TOC)	<10 ppb
粒子状汚染物質	<1 ppb

この超純水精製システムは、重要な生産、安全性、品質基準を満たす高品質の精製水を必要とする業界にとって理想的なソリューションです。{0} RO および EDI テクノロジーを活用することにより、このシステムは、最小限の運用コストとメンテナンス要件で超純水を生成する、環境に優しく、効率的で持続可能なソリューションを提供します。