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逆浸透脱イオン水システムは、工業、実験室、医療、製造用途向けに高純度および超純水を生成するように設計された高度な浄水ソリューションです。{0}逆浸透 (RO) 技術と脱イオン (DI) 技術を組み合わせることで、システムは溶解塩、ミネラル、有機汚染物質、イオン性不純物を効果的に除去し、極めて低い導電率と高い抵抗率の水を供給します。

システム概要

逆浸透脱イオン水システムシステムは、次の 2 つの主要な段階で動作します。

1. 逆浸透 (RO) ステージ

溶解固形分 (TDS) を最大 95 ～ 99% 除去します
塩分、重金属、バクテリア、有機汚染物質を除去します。
シリカと硬度を大幅に低減
イオン負荷を低下させて下流の DI 樹脂を保護
RO は主要な浄化バリアとして機能し、最終研磨に使用できる低 TDS 水を生成します。{0}

2. 脱イオン (DI) 段階

陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂を使用して残留イオン性不純物を除去します
高抵抗率の水を生成します（構成に応じて最大 18.2 MΩ・cm）-
最小限の導電率と超低ミネラル含有量を保証します。{0}
DI ステージは RO 処理水を研磨して超純度基準を達成します。{0}

逆浸透純水システムの主な特徴

溶解塩分やミネラルの除去効率が高い
低導電率/高抵抗出力
安定した一貫した水質
モジュール式でスケーラブルな設計
オプションの UV 滅菌と最終濾過
-導電率と TDS のリアルタイム監視
自動フラッシングおよび保護機能

一般的な水質仕様

パラメータ	典型的な出力
抵抗率	最大18.2MΩ・cm
導電率	< 0.1–10 µS/cm (depending on design)
TDS	< 1–10 ppm
シリカ	< 0.05 ppm
目次	< 10 ppb (with UV option)

アプリケーション

逆浸透脱イオン水システムは以下の分野で広く使用されています。

研究所と分析試験
化学処理
医薬品製造
バッテリーとエネルギー貯蔵の生産
産業用冷却および蒸気生成
電子機器および半導体の洗浄
自動車および金属仕上げ

利点

スケールや腐食を防止

機器にダメージを与える硬度や塩素イオンを除去します。

製品の品質を向上させる

汚染のない一貫した製造結果を保証します。

メンテナンスコストの削減

ボイラー、チラー、精密機器を保護します。

環境に優しい

従来の再生システムと比較して化学物質の使用量が少なくなります。

カスタマイズ可能な容量

小規模な実験室ユニットから大規模な産業システム (1–200+ m3/hr) まで利用可能です。

システムコンポーネント

前処理フィルター（沈殿物、カーボン）
軟水器（必要な場合）
高圧 RO ポンプ-
RO膜ハウジング
DI 樹脂容器または混合床ユニット-
導電率/抵抗率のモニタリング
コントロールパネル（PLCオプション）
貯蔵タンクと分配ポンプ（オプション）

結論

逆浸透脱イオン（RODI）水システムは、幅広い業界で高純度水を生成するための信頼性が高く、コスト効率の高いソリューションを提供します。{0}{1}{1}このシステムは、バルク汚染物質除去のための RO と最終研磨のための DI を組み合わせることで、優れた水質、運用効率、長期的な機器保護を保証します。-

ご希望であれば、以下も提供できます。